刻蚀

更新时间:-- | 阅读量: 74

应用微氟催化循环蚀刻的方法对普通玻璃进行了蚀刻研究．在蚀刻液优化配比的条件下，选择了无痕催化的工艺条件为pH一4.5，温度50℃，蚀刻时5.5 h．并对蚀刻后玻璃机基体表面进行了SME、EDX、IR分...

《陕西科技大学学报（自然科学版）》 2013年5期 关键词: "玻璃","无痕","催化","蚀刻" 收藏

穿透硅通孔技术是实现3D集成封装的关键技术之一,而交替复合深刻蚀技术是实现穿透硅通孔的重要方式。本文分别采用CF4、C4F8和O2研究交替复合深刻蚀中的钝化工艺,用X射线能谱测试仪分析了不同气体在硅表...

《科技创新与应用》 2013年21期 关键词: "穿透硅通孔(TSV)"," 交替复合深刻蚀"," 钝化工艺" 收藏

以乙烯醋酸乙烯酯共聚物( EVA)泡沫为基材，使用碱溶液对EVA泡沫表面进行刻蚀处理，得到了碱处理的EVA泡沫(SH-EVA)，然后以HC1为掺杂剂，引发苯胺单体在SHEVA表面聚合，制备出了PANI...

《陕西科技大学学报（自然科学版）》 2014年3期 关键词: "聚苯胺","乙烯醋酸乙烯酯共聚物","泡沫" 收藏

以钽酸锂晶体作为晶体滤波器压电材料。通过优化离子束刻蚀工艺参数，采用间歇式离子束刻蚀方法，解决了刻蚀区微裂纹工艺问题，使厚度为60 t_'m钽酸锂晶片减薄至30 t_'m。利用反台阶结...

《压电与声光》 2014年3期 关键词: "晶体滤波器","钽酸锂","离子束刻蚀","高频","宽带" 收藏

直流自我偏压作为高密度射频(RF)等离子体刻蚀工艺中的重要电学参数，反映出具有高能量的离子对待刻蚀晶片的轰击效果，后者决定了刻蚀工艺的各向异性、刻蚀速率、选择比及形貌特征等工艺结果。该文以HBr作为刻...

《压电与声光》 2014年5期 关键词: "","ICP刻蚀系统","离子源功率","衬底偏压功率","刻蚀压力","气体流量","直流偏压" 收藏

<p>随着电子企业的增加，PCB 产业园内废旧电路板、酸碱蚀刻废液等危险废物将日益增多。</p>

《科技经济导刊》 2015年27期 关键词: "碱式氯化铜","废蚀刻液","铜盐" 收藏

采用电感耦合等离子体（ICP）刻蚀设备对应用于垂直腔面发射激光器的GaAs/AlGaAs材料进行刻蚀工艺研究。该刻蚀实验采用光刻胶作为刻蚀掩模,Cl2/BCl3作为刻蚀工艺气体,通过实验分析总结了IC...

《中国激光》 2020年04期 关键词: "激光光学"," 垂直腔面激光发射器"," 电感耦合等离子体刻蚀"," 圆台结构"," GaAs/AlGaAs材料" 收藏

为了使用低成本的红外光纤激光器对蓝宝石进行高效率高质量的加工,采用激光诱导背向湿式刻蚀方法进行了理论分析和实验验证,研制了一种新型的活性高且稳定性高的混合溶液,硫酸铜的质量浓度为28g/L、次磷酸钠的...

《激光技术》 2020年01期 关键词: "激光技术"," 混合溶液"," 激光诱导背向湿式刻蚀"," 蓝宝石"," 成形切割" 收藏

在氧化物限制型垂直腔面发射激光器制备中,刻蚀GaAs/AlGaAs时因异质型材料常出现选择性内蚀现象,这会直接影响后续的氧化工艺及电极钝化的效果。针对因选择性内蚀而出现的"镂空"现象,对湿法刻蚀工艺和...

《中国激光》 2020年04期 关键词: "激光技术"," 垂直腔面发射激光器"," GaAs/AlGaAs"," 湿法刻蚀"," 感应耦合等离子体刻蚀"," 选择性内蚀"," 镂空" 收藏