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在高度真空环境中,从独立离子源中引出高能离子束轰击靶面形成溅射的镀膜工艺。主要...离子束溅射工艺装置复杂、沉积速率低，但可以独立控制各溅射参数，基片或工件不与等离子体接触，可在很低的温度下成膜，镀膜真空度可高达10-4～10-8Pa，能 ...
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