多层抗蚀掩模

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邻重氮萘醌正性光致抗蚀剂是在紫外(波长300~450nm)光通过掩模照射后、光照部分重氮基......学机械加工工艺的制作。除了用于接触曝光外,还可用于投影曝光和分步重复曝光等。邻重氮萘醌正性光致抗蚀剂生产流程图图

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