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主要进行了6 英寸(152.4 mm)高均匀性P 型硅外延片的生产工艺研究。利用 PE-2061S 型桶式外延炉,在重掺硼的硅衬底上化学气相沉积P/P+ 型硅外延层。通过流场调节工艺、基座包硅工艺、变...
《电子与封装》 2015年9期 关键词: "6","英寸","均匀性","P","型硅外延","非主动掺杂" 收藏
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