射频磁控溅射
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在真空状态下将金属加热气化成分子和原子,或者使其离子化成离子,直接沉积到镀件表面...该现象早在19世纪50年代即已发现，20世纪60年代后期研究和发展了射频溅射，用来溅射各种介质，到1974年发现了低温高速磁控溅射，这时具有高能量的正离 ...

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射频磁控溅射生长AlN:Er薄膜及其光致发光
采用射频磁控溅射的方法在Si（100）衬底上生长了AlN:Er薄膜。利用X射线衍射仪（XRD）和扫描电子显微镜（SEM）分别对薄膜晶体取向和表面形貌进行了表征,并测量了薄膜的光致发光（PL）光谱。结果...

《稀有金属》 2020年02期关键词: "射频磁控溅射"," AlN:Er"," 择优生长"," 晶格扩张" 收藏
射频磁控溅射法成长Cu-Al-O薄膜的特性分析
本文以Cu靶和Al靶为靶材,在Al靶上粘贴不同数量的Cu片控制Cu/Al比例,利用射频磁控溅射法在玻璃基板上沉积Cu-Al-O薄膜;通过WDS、XRD、XPS、四点探针、霍尔效应及UV-vis光谱等分...

《粉末冶金工业》 2020年01期关键词: "p型透明导电氧化物薄膜"," Cu-Al-O薄膜"," 射频磁控溅射"," Al含量"," 晶体结构"," 光电特性" 收藏