金属有机化学气相淀积

更新时间:-- | 阅读量: 72

简称CVD法,是以气相原材料经化学反应而淀积固体薄膜的方法。由于制备的薄膜能与基体紧密...⑤金属有机化合物气相淀积方法(MOCVD),采用金属有机化合物气相源的CVD方法。该法可制备结构精细的多层金属或半导体膜是当代微电子技术的一种重要 ...

搜索到与“ 金属有机化学气相淀积”相关的文献共 0

查看更多

金属有机化学气相淀积相似词

金属有机化学气相淀积相关词

金属有机化学气相淀积相关期刊

Copyright © 2013-2016 ZJHJ Corporation,All Rights Reserved

京ICP备2021021570号-13

京公网安备 11011102000866号