钨薄膜
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以高纯度W和Ti制成的合金。常用的成分为含10%Ti的W-10Ti。......压制和特殊的烧结工艺或用真空热压、热等静压等工艺制成。用作超大规模集成电路薄膜工艺中的溅射靶。钨钛薄膜具有良好的导电性和耐蚀性。

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氧化钨薄膜材料的结构与电化学性能调控研究
以钨粉和过氧化氢为主要原料，异丙醇为溶剂，采用一步溶剂热法对氧化钨水合物薄膜进行了形貌可控合成．利用X射线衍射仪、扫描电子显微镜和电化学工作站研究了不同模板剂对产物的物相、形貌及电化学性能的影响．结果...

《陕西科技大学学报（自然科学版）》 2015年2期关键词: "氧化钨水合物薄膜","模板剂","电化学性能","形貌控制" 收藏
电沉积钴-钨合金薄膜的磁性能及其测量方法
采用电沉积技术在纯铜片上制备了钴-钨合金薄膜,并研究了钴-钨合金薄膜的磁性能与其厚度、结构及表面形貌等的关系。结果表明:钴钨电沉积属于诱导共沉积,钨在钴表面氢原子的催化作用下与钴发生共沉积。钴-钨合金...

《电镀与环保》 2020年01期关键词: "钴-钨合金薄膜"," 电沉积"," 矫顽力" 收藏