光化学沉积
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一种半导体薄膜材料制备技术。光化学气相沉积又称光辅助化学气相沉积或光激化学气相...与热CVD相比，光CVD的成膜温度较低（常温≈400℃）。由于光能一般不会使反应气体电离，淀积室内没有带电粒子，也没有电极和电场，因此，不会因有带电粒子对 ...

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前驱体温度对激光化学气相沉积YBa₂Cu₃O_7-δ超导薄膜结构及性能的影响
采用激光化学气相沉积法在Al2O3基底上以49μm·h-1的沉积速率高速制备了c-轴取向的YBa2Cu3O7-δ薄膜,其中,激光功率为133 W,沉积温度1103 K,腔体压强800 Pa。研究了前驱...

《材料科学与工艺》 2020年02期关键词: "激光化学气相沉积"," 7-δ薄膜","","Mjg5ODVoOFdqZTNOVzNsaTdUeDhTWGZtMmhCRGY4RGhNN09iQ09SdkZDbmtXNzdNSVYwV2JCQ0tQQy9xSE1EOUhhNmp0NGhZOA==)","&#xA"," >YBa2Cu3O7-δ薄膜"," 高速沉积" 收藏