选择性刻蚀
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刻蚀把光致抗蚀剂中的图形永久地转移到硅圆片上的工艺。分干刻蚀技术和湿刻蚀技术。...在严格要求尺寸精确的LSI，适宜使用干式刻蚀技术。刻蚀技术最重要的两个特性是被刻蚀的层相对于掩膜的选择性和相对于下层必须停止刻蚀的选择性。

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垂直腔面发射激光器中GaAs/AlGaAs的选择性刻蚀技术研究
在氧化物限制型垂直腔面发射激光器制备中,刻蚀GaAs/AlGaAs时因异质型材料常出现选择性内蚀现象,这会直接影响后续的氧化工艺及电极钝化的效果。针对因选择性内蚀而出现的"镂空"现象,对湿法刻蚀工艺和...

《中国激光》 2020年04期关键词: "激光技术"," 垂直腔面发射激光器"," GaAs/AlGaAs"," 湿法刻蚀"," 感应耦合等离子体刻蚀"," 选择性内蚀"," 镂空" 收藏