氮合金化
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(AlCrNbSiTiV)N高熵合金氮化薄膜溅镀参数的灰关联分析优化
采用直流反应式磁控溅镀法在硅晶片和住友刀具BN2000上制备(AlCrNbSiTiV)N高熵合金氮化薄膜。通过正交试验考察了溅镀功率、沉积温度、氮氩气流量比和基材偏压对薄膜的摩擦因数、硬度和刀具磨损的...

《电镀与涂饰》 2020年01期关键词: "高熵合金氮化物"," 反应式磁控溅镀"," 沉积参数"," 摩擦因数"," 显微硬度"," 磨损"," 灰关联分析" 收藏