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high temperature annealing
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<p>通过等离子体增强化学气相沉积方法制备氢化非晶硅薄膜,薄膜的厚度约为200nm,再通过高温热退火处理形成致密度较好的、晶化率较高的、晶粒尺寸均匀的纳米硅量子点薄膜。<br/></p>
《科技经济导刊》 2015年28期 关键词: "等离子体","高温热退火","纳米硅量子点薄膜" 收藏
采用FLUENT仿真软件对环形炉炉膛模型、单个内罩模型、温度优化模型进行仿真模拟,研究内罩内温度分布情况,提出温度均匀性改进方案并进行试验验证。结果表明:在钢卷底座侧叠加隔热材料对钢卷顶底温差和磁性均...
《电工钢》 2020年01期 关键词: "取向硅钢"," 高温退火炉"," 仿真"," 环形炉"," 温度均匀性" 收藏
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