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以涂层材料为靶阴极,利用氩离子轰击靶材产生阴极溅射,将靶材原子溅射到工件上形成...其溅射速率较高，基片温度低，溅射电压为0.2～1kV，功率密度为3～30W/cm2。适用于沉积各种功能性金属和陶瓷涂层。
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010-56259535
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