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在低压下,借助气态物质在基体表面或近表面空间进行化学反应生成固态膜的技术。......度均匀,台阶覆盖率高,可精确控制膜的成分与结构。在低压下,膜的沉积速率降低,膜的质量高于常压CVD。用于大规模硅器件介质膜的外延生长等。
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