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掺杂浓度高,其电阻率达到2×10-2Ω·cm的半导体硅材料,属简并半导体。其特点是:(1)杂质...制备重掺锑硅单晶的技术难度较大。尤其是易产生位错和因杂质管道效应(小平面效应)造成的径向电阻率均匀性较差。拉制重掺锑硅单晶的技术关键是:配 ...
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《铁合金》
《建筑研究与技术》
《中华重症医学电子杂志》
《武汉理工大学学报(信息与管理工程版)》
《上海工程技术大学学报》
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