氧化钒薄膜
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磁控溅射氧化钒相变薄膜的电阻温度特性测量
利用MS500-B超高真空磁控溅射镀膜机，分别采用氧化法和还原法在普通玻璃基底上制备了二氧化钒(V02)相变薄膜；并在20～80℃内往复变化时，利用XMT-100数字精密温度计和SX19 34数字四探...

《压电与声光》 2014年2期关键词: "直流磁控溅射","二氧化钒(V02)薄膜","退火" 收藏